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產品名稱：SIGMAKOKI西格瑪光機無框架分光鏡鏡架 GBSMU-49-VIS
產品型號：
產品廠商：日本SIGMAKOKI西格瑪光機
產品價格：0
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簡單介紹：

沒有反射鏡支架的邊框，支架正面全部成為反射鏡。由于基板為精密拋光的熱膨脹系數小的陶瓷（或是合成石英），能夠得到極高的面型精度和溫度穩定性。備有適用YAG激光各種波長譜區的系列產品。

詳情介紹：

詳情

?無框反射鏡是在精密拋光的陶瓷上鍍膜，與一般反射鏡的特性相比沒有差異。
?*大限度地擴大反射鏡的有效面積，并且，具有結構緊湊的反射鏡調整機構。
?反射波面不會隨溫度變化而變形，*適合于精密的光學系統。
? 這個產品保證鍍膜后(支架狀態)的面型精度。
?具有高激光損傷閾值，強激光也可使用。

更多信息

更多信息
目錄編號	W3406
RoHS	是
CE	否
資料下載	PDF
圖紙下載	DXF STP IGES SAT
信息	?在基板上的安裝方法和MHG反射鏡支架一樣。（WEB參照/カタログコードW4001） ?可以安裝臺柱PST-＊＊：另售（WEB參照/カタログコードW6039）或立柱RO-＊＊：另售（WEB參照/カタログコードW6052）。 ?各波長的「波長特性數據」（僅供參考、透過率的單位為T[％]）請參考【這里】。
注意	?產品中不附有保證面型精度數據。需要保證面型精度數據文件時，需要額外文件制作費用。請至營業部門問詢。 ?激光等的直線偏振光射入分光鏡時，反射率或透過率隨偏振方位發生變化。需要嚴格地調整分束比為1:1時，請45度傾斜偏振光方位或使用圓偏光。 ?多層電解質膜的反射率波長特性隨入射光束的偏光狀態變化。P偏光與S偏光相比，反射率變低，反射帶譜區變窄。 ?技術指標的反射率是用P偏光和S偏光的反射率的平均值來表示的。 ?用于45°以外的入射角度時，反射率有可能降低。 ?在設計波長以外的波長譜區使用時，反射率有可能降低。
激光損傷閾值	2.1J/cm2
鍍膜范圍	48×48mm
表面質量	20?10
適用波長	400～700nm
反射率	平均50±5％
反射鏡部形狀	49×49×12mm
外形尺寸	49×49mm
厚度	12mm
主要材料	鋁合金
透過通口直徑	φ20mm
入射角度	45°±3°
表面處理	黑色陽極氧化
型號	GBSMU-49
面型精度保證范圍	φ30mm
鍍膜后面型精度	反射波面 λ/10
可動軸數	2軸
質量	0.16kg
光學元件類型	分光鏡
調整范圍擺動	±2°
調整范圍旋轉	±2°
分辨率擺動	0.26°/周
分辨率旋轉

信息	?在基板上的安裝方法和MHG反射鏡支架一樣。（WEB參照/カタログコードW4001） ?可以安裝臺柱PST-＊＊：另售（WEB參照/カタログコードW6039）或立柱RO-＊＊：另售（WEB參照/カタログコードW6052）。 ?各波長的「波長特性數據」（僅供參考、透過率的單位為T[％]）請參考【這里】。
注意	?產品中不附有保證面型精度數據。需要保證面型精度數據文件時，需要額外文件制作費用。請至營業部門問詢。 ?激光等的直線偏振光射入分光鏡時，反射率或透過率隨偏振方位發生變化。需要嚴格地調整分束比為1:1時，請45度傾斜偏振光方位或使用圓偏光。 ?多層電解質膜的反射率波長特性隨入射光束的偏光狀態變化。P偏光與S偏光相比，反射率變低，反射帶譜區變窄。 ?技術指標的反射率是用P偏光和S偏光的反射率的平均值來表示的。 ?用于45°以外的入射角度時，反射率有可能降低。 ?在設計波長以外的波長譜區使用時，反射率有可能降低。
激光損傷閾值	2.1J/cm2
鍍膜范圍	48×48mm
表面質量	20?10
適用波長	400～700nm
反射率	平均50±5％
反射鏡部形狀	49×49×12mm
外形尺寸	49×49mm
厚度	12mm
主要材料	鋁合金
透過通口直徑	φ20mm
入射角度	45°±3°
表面處理	黑色陽極氧化
型號	GBSMU-49
面型精度保證范圍	φ30mm
鍍膜后面型精度	反射波面 λ/10
可動軸數	2軸
質量	0.16kg
光學元件類型	分光鏡
調整范圍擺動	±2°
調整范圍旋轉	±2°
分辨率擺動	0.26°/周
分辨率旋轉	0.26°/周

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產品名稱：SIGMAKOKI西格瑪光機無框架分光鏡鏡架 GBSMU-49-VIS