姓名	桌面表面清潔重整器
模型	PM2001N-3
概述	以 185 nm 和 254 nm 的光能去除納米級有機污漬
采用	?提高樹脂表面的潤濕性 ?提高 對樹脂材料上的粘合劑、涂料、涂料的附著力 ?各種基材的前處理 ?金屬、玻璃等表面的清洗和改性? 抗蝕劑的輕度灰化、電鍍前處理
特征	-UV處理可以很容易地進行。 -由于照射尺寸為200 x 200 mm，它不僅可以用于研究，還可以用作小型生產機器。 - 由于工作臺旋轉，因此可以均勻照射。

于1965年在大阪成立，以開發和制造激光產品為宗旨。然而，激光是在 1960 年發明的。正如我在主頁上的問候中提到的，我們的激光業務現在還為時過早。之后，為響應半導體硅片行業的需求，我們于1973年研制出高性能短波長紫外燈（低壓汞燈）。它用于對水進行**。這就是我們接觸到紫外線的原因。市場上紫外線**的歷史*悠久，已有150多年的歷史。**燈1938年由美國GE公司商業化，至今已超過80年。此外，紫外線作為**后的紫外線固化技術在 1960 年代被商品化。近年來，紫外線的應用領域迅速擴大，應用我們紫外線技術的產品也應運而生。

1. 臭氧生成 ? 臭氧分解
2. 養魚（水產養殖、水族館）用水**
3. 貝類（鮑魚、紅貝、牡蠣貝）的誘導產卵
4. 難分解有害氣體處理（VOC等）
5. 半導體存儲器的記錄 擦除
6. 測量儀器的UV光源（臭氧濃度計、水質監測儀等）
7. UV臭氧干式**清洗
8. UV臭氧干式表面改性（提高附著力）
9. 潤滑劑的附著力HDD磁盤表面（UV）水產養殖）
10.加速臭氧處理（**水處理）