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光學儀器、光學材料、實驗儀器、手動工具、焊接工具、焊接材料、儀器儀表、靜電設備、靜電輔料、工業(yè)器材、氣動元件、電工電氣、測量工具、計量設備、氣動工具、電動工具、化工設備、化工輔料、點膠設備、小型設備、儲存設備、物流設備、工業(yè)安防、**防護、包裝材料、切削工具、切削材料、辦公設備、辦公文具、工裝夾具、測試治具、機械加工。設備等。

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產(chǎn)品名稱：功能齊全重慶內藤銷售 FE-3000 反射分光光度計 OTSUKA大塚電子
產(chǎn)品型號：FE-3000
產(chǎn)品廠商：OTSUKA大塚電子
產(chǎn)品價格：0
折扣價格：0
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簡單介紹：

功能齊全重慶內藤銷售 FE-3000 反射分光光度計 OTSUKA大塚電子它是一種可以測量多層薄膜厚度并通過反射光在紫外至近紅外區(qū)域分析光學常數(shù)的干涉膜厚度計。功能齊全重慶內藤銷售 FE-3000 反射分光光度計 OTSUKA大塚電子通過采用光譜學，可以以非接觸，非破壞性，高精度測量具有高重現(xiàn)性的膜厚度。它對應于很寬的波長范圍（190 nm?1600 nm）。它對應于從薄膜到厚膜的廣泛測量范圍。（1nm至1mm）通過測量微小斑點（*小φ3μm），它對應于具有圖案和不均勻性的樣本。

詳情介紹：

通過使用顯微鏡獲得微小區(qū)域的**反射率，可以通過高精度的光學干涉法進行膜厚分析。
和在半導體領域圖案的樣品，其它的形狀進行采樣，如透鏡或鉆頭，例如表面粗糙度的樣品和膜厚不均，它使的各種樣品的厚度和光學常數(shù)分析。

（詳情請咨詢TEL:18375760285 QQ;1280713150 白先生）

特點

它是一種可以測量多層薄膜厚度并通過反射光在紫外至近紅外區(qū)域分析光學常數(shù)的干涉膜厚度計。
通過采用光譜學，可以以非接觸，非破壞性，高精度測量具有高重現(xiàn)性的膜厚度。
它對應于很寬的波長范圍（190 nm?1600 nm）。
它對應于從薄膜到厚膜的廣泛測量范圍。（1nm至1mm）
通過測量微小斑點（*小φ3μm），它對應于具有圖案和不均勻性的樣本。

測量項目

**反射率測量
薄膜厚度分析
光學常數(shù)分析（n：折射率，k：消光米數(shù)）

使用

功能性膜，塑料
的透明導電膜（ITO，銀納米線），相位差膜，偏振膜，AR膜，PET，PEN，TAC，PP ，PC，PE，PVA，膠，粘合劑，保護膜，硬外套，指紋等
半導體，化合物半導體
Si，氧化膜，氮化膜，Resist，SiC，GaAs，GaN，InP，InGaAs，引線框架，SOI，藍寶石等
表面處理的
DLC涂層，防銹劑，防霧劑等
光學材料
鏡頭，過濾器，AR涂層等
FPD
LCD（CF，ITO，LC，PI，PS），OLED（有機膜，密封膠）等
其他
硬盤，磁帶，建筑材料等

測量原理

使用大冢電子，光學干涉測量和我們自己的高精度分光光度計可實現(xiàn)非接觸，無損，高速和高精度的薄膜厚度測量。光學干涉測量法是通過使用由使用如圖1所示的分光光度計的光學系統(tǒng)獲得的反射率來獲得光學膜厚度的方法。例如，如圖1所示，在金屬基板上涂布膜的情況下，從目標試樣的上方入射的光被膜（R1）的表面反射。而且，透過膜的光在基板（金屬）或膜界面（R2）上反射。測量此時由于光程差引起的相移引起的光學干涉現(xiàn)象，并根據(jù)所獲得的反射光譜和折射率計算膜厚度的方法稱為光學干涉方法。有四種分析方法：峰谷方法，頻率分析方法，非線性*小二乘法和優(yōu)化方法。